特許

J-GLOBAL ID：200903038723567362

カチオン型界面活性剤の製造方法

発明者： 棚橋 真一郎 ,  前田 利次 ,  森下 貢 ,  久保 誠 ,  坂井 隆也
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-318550
公開番号（公開出願番号）：特開平8-176084
出願日： 1994年12月21日
公開日（公表日）： 1996年07月09日
要約：

【要約】【目的】 高品質の低刺激性/高起泡性のカチオン型界面活性剤の製造方法の提供。【構成】 環状アミン及び/又はアミドアミンとカチオン化剤を反応させて、例えば下記式で表されるようなカチオン型界面活性剤を含有する粗反応液を得、これを薄膜を形成する装置内に連続的に供給し、粗反応液を薄膜状に流すことで揮発成分を除去する。【化1】

請求項（抜粋）：

一般式(I)【化1】〔式中、R1は直鎖または分岐鎖の炭素数7〜15のアルキル基又はアルケニル基を示す。G は H又は炭素数1〜3のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基を示す。m は2又は3の数を示す。〕で表される環状アミン及び/又は一般式(II)【化2】〔式中、R1及びm は前記の意味を示す。G1、G2はそれぞれ H又は炭素数1〜3のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基を示すが、G1、G2のうち少なくとも一方はH である。〕で表されるアミドアミンと、一般式(III)【化3】〔式中、R2、R3及びR4は同一又は異なる炭素数1〜3のアルキル基を示す。Y はH 又はヒドロキシル基を示す。A はOH、ハロゲン原子又は炭素数1〜4のアルキル硫酸基を示す。Z はハロゲン原子を示す。n は0又は1〜5の整数を示す。但し、 n=1の場合は、 Y=H 又はヒドロキシル基を示し、 n=0、2、3、4及び5の場合は Y=H を示す。〕で表されるカチオン化剤とを反応させ、一般式 (IV)【化4】〔式中、R1、R2、R3、R4、G 、Y 、A 、m 及びn は前記の意味を示す。E は H、炭素数1〜3のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基、又は式(V)【化5】(R2、R3、R4、Y 、A 及びn は前記の意味を示す)で表される基を示す。但し、G が炭素1〜3のアルキル基又はヒドロキシアルキル基の場合、E は炭素数1〜3のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基ではない。〕で表されるカチオン型界面活性剤を含有する反応液(以下、粗反応液という)を得たのち、この粗反応液を薄膜を形成する装置内に連続的に供給し、粗反応液を薄膜状に流すことで揮発成分を除去することを特徴とするカチオン型界面活性剤の製造方法。

IPC (3件)：

C07C233/36 ,  C07C233/38 ,  C11D 1/62