特許
J-GLOBAL ID：200903038724490720
磁気抵抗効果膜及びその製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-284734
公開番号（公開出願番号）：特開平8-147639
出願日： 1994年11月18日
公開日（公表日）： 1996年06月07日
要約：
【要約】【目的】微小磁界の変化に対し磁気抵抗変化率が大きな磁気抵抗効果膜を提供する。【構成】強磁性層1と非強磁性層2とを交互に積層し、熱処理により強磁性層1を不連続にした磁気抵抗効果多層膜で、非強磁性層2から見て、基板3から遠い側の界面が基板3から近い側の界面よりも平坦である構造とする。【効果】磁気記録装置の飛躍的性能向上が可能となる。
請求項（抜粋）：
強磁性層と非強磁性層とを交互に積層した構造を有する磁気抵抗効果膜において、前記非強磁性層から見て、基板から遠い側の界面が前記基板から近い側の界面よりも平坦であることを特徴とする磁気抵抗効果膜。
IPC (5件)：
G11B 5/39
, C23C 14/14
, C23F 4/00
, H01F 10/08
, H01F 10/14
