特許
J-GLOBAL ID：200903038728683867

レジスト用モノマーおよびその精製方法

発明者：
村田 直志

村田 直志 について

, 
田村 公夫

田村 公夫 について

, 
吉田 康一

吉田 康一 について


出願人/特許権者：
三菱レイヨン株式会社

三菱レイヨン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-337132
公開番号（公開出願番号）：特開2001-201868
出願日： 2000年11月06日
公開日（公表日）： 2001年07月27日
要約：
【要約】【課題】 レジスト用ポリマーの原料モノマーとして使用される高沸点、低融点、重合性、分解性モノマー類から不純物を簡便かつ効果的に低減させることができるレジスト用粗モノマーの精製方法を提供する。【解決手段】 エステル化反応で得られたレジスト用粗モノマーの精製において、粗モノマーを水および/または有機溶媒で洗浄した後、吸着剤と接触させるか、または粗モノマーを薄膜蒸留する。
請求項（抜粋）：
エステル化反応で得られたレジスト用粗モノマーの精製において、粗モノマーを水および/または有機溶媒で洗浄した後、吸着剤と接触させることを特徴とするレジスト用モノマーの精製方法。
IPC (5件)：
G03F 7/26 ,  C07C 67/56 ,  C07C 69/54 ,  C07D307/33 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F 7/26 ,  C07C 67/56 ,  C07C 69/54 B ,  C07D307/32 Q ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (13件)：
2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096LA30 ,  4C037EA20 ,  4H006AA02 ,  4H006AD11 ,  4H006AD16 ,  4H006AD17 ,  4H006BB11 ,  4H006BB15 ,  4H006BB25 ,  4H006BB31 ,  4H006BJ30
引用特許：
出願人引用 (5件)
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