特許

J-GLOBAL ID：200903038737334913

基板処理装置

発明者： 大谷 正美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-230987
公開番号（公開出願番号）：特開平11-063603
出願日： 1997年08月27日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】 特定のユニット内の圧力を調整することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板処理ユニット3に備えた昇降ロボット12の昇降動作に伴って生じる基板処理ユニット3内の圧力を、圧力センサ18で検出する。検出された圧力値に基づき、ファン制御部32は、基板処理ユニット3内の圧力変動を求め、この圧力変動が圧力上昇である場合には、排気ファン11によって排気エア11bの量を増加させ、また、圧力変動が圧力減少である場合には、導入ファン10によって導入エア10bの量を増加させる。したがって、基板処理ユニット3内の圧力を容易に調整することができる。

請求項（抜粋）：

隔壁で隔てられた複数個のユニットで構成される基板処理装置において、特定のユニット内の圧力を、このユニットに導入される導入エア量、または、このユニットから排出される排出エア量を調節することで、調整する圧力調整手段を備えたことを特徴とする基板処理装置。