中性コロイダルシリカの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：成瀬勝夫 , 中村智廣 , 鳥野正司 , 佐々木一也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-303507
公開番号（公開出願番号）：特開2007-153732
出願日： 2006年11月09日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：

【課題】酸処理やイオン交換処理等の特別な後処理をする必要がなく、また、アルカリ金属を始めとして金属不純物含有量が極めて少ないpH5〜8の中性コロイダルシリカを容易に製造することができる中性コロイダルシリカの製造方法を提供する。【解決手段】オルガノシリケートとして易加水分解性オルガノシリケートを用い、また、加水分解触媒として特定の加水分解触媒を用い、この加水分解触媒を、少なくとも反応終了時の反応混合物中におけるシリカ(B)に対する加水分解触媒(A)の割合{触媒残存モル比(A/B)}が0.012以下となるように、添加して反応させ、酸処理及びイオン交換処理を行うことなくpH5〜8の中性コロイダルシリカを製造する方法である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

加水分解触媒の存在下にオルガノシリケートを加水分解してコロイダルシリカを製造するコロイダルシリカの製造方法において、オルガノシリケートとして易加水分解性オルガノシリケートを用い、また、加水分解触媒として第四級アンモニウム類、アミノアルコール類、モルホリン類及びピペラジン類から選ばれた1種又は2種以上の混合物を用い、この加水分解触媒を、少なくとも反応終了時の反応混合物中におけるシリカ(B)に対する加水分解触媒(A)の割合{触媒残存モル比(A/B)}が0.012以下となるように、添加して反応させ、酸処理及びイオン交換処理を行うことなくpH5〜8の中性コロイダルシリカを製造することを特徴とする中性コロイダルシリカの製造方法。

IPC (2件)：

C01B 33/141 , C09K 3/14

FI (2件)：

C01B33/141 , C09K3/14 550D

Fターム (15件)：

4G072AA28 , 4G072BB07 , 4G072CC01 , 4G072EE01 , 4G072GG03 , 4G072HH17 , 4G072HH30 , 4G072KK15 , 4G072LL06 , 4G072PP02 , 4G072PP15 , 4G072TT01 , 4G072TT02 , 4G072TT30 , 4G072UU30

引用特許：

出願人引用 (12件)

特公平4-56,774号公報
特公平4-65,006号公報
圧力スイング式ガス製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-166092 出願人：三菱重工業株式会社

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審査官引用 (6件)

CMP用研磨剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-192935 出願人：多摩化学工業株式会社
変性コロイダルシリカの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-403732 出願人：扶桑化学工業株式会社
球状シリカ粒子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-299144 出願人：触媒化成工業株式会社

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