特許
J-GLOBAL ID:200903038749739943
機械練り石鹸組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
田治米 登 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-307093
公開番号(公開出願番号):特開2002-114994
出願日: 2000年10月06日
公開日(公表日): 2002年04月16日
要約:
【要約】【課題】 通常の機械練り固形石鹸における数%〜10%程度の含水率を15%を超える含水率に高めたにも関わらず、泡立ち性や使用感といった基本性能を損なうことなく、従来の機械練り石鹸製造設備を使用して安価に製造できる機械練り石鹸組成物を提供する。【解決手段】 成分(a)脂肪酸石鹸(21〜81重量%)、成分(b)水(18〜45重量%)、成分(c)ポリオキシアルキレン型非イオン系界面活性剤(0.5〜7重量%)、成分(d)塩化ナトリウム(0.4〜7重量%)、及び成分(e)ポリオキシアルキレングリコール(0.1〜20重量%)から機械練り石鹸組成物を構成する。
請求項(抜粋):
以下の成分(a)〜(e): (a)脂肪酸石鹸 21〜81重量%; (b)水 18〜45重量% (c)ポリオキシアルキレン型非イオン系界面活性剤 0.5〜7重量%; (d)塩化ナトリウム 0.4〜7重量%; 及び (e)ポリオキシアルキレングリコール 0.1〜20重量%を含有する機械練り石鹸組成物。
IPC (4件):
C11D 9/04
, C11D 9/10
, C11D 9/26
, C11D 17/06
FI (4件):
C11D 9/04
, C11D 9/10
, C11D 9/26
, C11D 17/06
Fターム (10件):
4H003AB03
, 4H003AC08
, 4H003AC12
, 4H003BA01
, 4H003DA02
, 4H003EA19
, 4H003EB36
, 4H003ED02
, 4H003FA18
, 4H003FA21
引用特許:
審査官引用 (1件)
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固形石鹸組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-035225
出願人:ライオン株式会社
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