特許

J-GLOBAL ID：200903038756129891

半導体装置製造ライン

発明者： 岩崎 順次 ,  森 一之
出願人/特許権者： 株式会社ルネサステクノロジ
代理人 (6件)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-262430
公開番号（公開出願番号）：特開2004-103761
出願日： 2002年09月09日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：

【課題】製品ウェハが収容されたキャリアの搬送またはその取扱いに伴って生じる問題点を解決する半導体装置製造ラインを提供する。【解決手段】半導体製造装置10bによって処理が施された製品ウェハが検査装置59に搬送されて検査が行なわれ、その結果が上位計算機に送られる。検査の結果、不合格と判定された製品ウェハが、上位計算機の指示のもと組込型ウェハ移し替え装置41によって空キャリアに移し替えられる。不合格と判定された製品ウェハが収容されたキャリアは、上位計算機によって再生ロットとされる。上位計算機が有する再生用の製造基準情報に基づいて、ウェハ製造オペレーションによって再生処理が施される。【選択図】 図14

請求項（抜粋）：

半導体ウェハを収容する容器を用いて半導体装置を製造するための半導体装置製造ラインであって、 半導体ウェハに所定の処理を施すための製造装置と、 前記製造装置によって前記半導体ウェハに施された処理が適切であるか否かを検査するための検査装置と、 それぞれ所定枚数の半導体ウェハを収容する一の容器および他の容器と、 前記検査装置によって検査され前記一の容器に収容された所定枚数の前記半導体ウェハのうち、処理が適切に施されておらず再生処理が必要であると判定された所定の半導体ウェハを前記一の容器から取出して前記他の容器に移し替えるとともに、前記他の容器に移し替えられ再生処理が施された前記所定の半導体ウェハを前記一の容器に戻す機能を有するウェハ移し替え装置と、 前記一の容器および前記他の容器を保管する保管装置と、 前記製造装置、前記検査装置、前記保管装置および前記ウェハ移し替え装置に対して前記一の容器および前記他の容器を搬送するための搬送装置と、 前記製造装置、前記検査装置、前記保管装置、前記ウェハ移し替え装置および前記搬送装置の動作を制御するための制御装置と を備えた、半導体装置製造ライン。

IPC (3件)：

H01L21/68 ,  B65G49/07 ,  H01L21/02

FI (4件)：

H01L21/68 A ,  H01L21/68 T ,  B65G49/07 L ,  H01L21/02 Z

Fターム (23件)：

5F031CA02 ,  5F031DA08 ,  5F031DA17 ,  5F031EA12 ,  5F031EA14 ,  5F031EA16 ,  5F031FA01 ,  5F031FA03 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031GA49 ,  5F031GA58 ,  5F031JA50 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031MA33 ,  5F031PA02 ,  5F031PA24