特許
J-GLOBAL ID：200903038764225360
投影露光装置におけるアライメント方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
宮田 金雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-032200
公開番号（公開出願番号）：特開平9-232202
出願日： 1996年02月20日
公開日（公表日）： 1997年09月05日
要約：
【要約】【課題】 縮小投影露光においてレチクルパターンの重ね合わせ精度を向上する。【解決手段】 ショットの4辺にアライメントマークが来るようにレチクル6の配線等パターン形成領域2の周囲にアライメントマーク41〜44を配置する。各アライメントマーク41〜44は、2種類のマーク要素4a〜4dを含むように構成する。露光時に、アライメントマーク41〜44を用いてX方向とY方向の位置合わせと倍率補正を同時に行う。
請求項（抜粋）：
第1の種類のマーク要素で位置合わせを行い、第2の種類のマーク要素で倍率補正を行うことが可能な投影露光装置におけるアライメント方法において、各レチクルにおける四辺形状をした被ビーム照射領域内にあって該被ビーム照射領域の四辺にそれぞれ一つずつ配置されるとともに前記四辺の対辺の2方向での位置合わせと倍率補正とに同時に使用可能なアライメントマークが設けられた複数のレチクルを準備する工程と、前記複数のレチクルのうちの第1層用のレチクルを用いて露光し、第1層のレチクルパターンとアライメントマークを被投影基板に形成する工程と、前記複数のレチクルのうちの第2層以降用のレチクルを用いて行う各ショットの露光前に、前記第2層以降用のレチクルに設けられた前記アライメントマークと前記被投影基板に形成されたアライメントマークとを用いて位置合わせと倍率補正を同時に行う工程とを備え、前記アライメントマークの各々が前記第1の種類のマーク要素と前記第2の種類のマーク要素とを組み合わせたものであることを特徴とする、投影露光装置におけるアライメント方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 525 D
, G03F 9/00 H
