特許
J-GLOBAL ID：200903038782285150
半導体製造用マスクデータ作成システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-176373
公開番号（公開出願番号）：特開平6-019110
出願日： 1992年07月03日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：
【要約】【目的】LSIの微細化に伴いデータ粗密によりデザインルール(線幅)を微妙に変更することができ、更に高精度なマスクと高速な処理を得ることができる半導体製造用マスクデータ作成システムを提供する。【構成】データ加工指示を与える命令入力部、与えた加工指示を表示確認する表示部、目的データを得る為にデータリサイズ手段とデータ補正手段を有しデータ加工の演算制御をする制御部、CADデータと加工指示命令および半導体製造用マスクデータを蓄える記憶部より構成される。内部的に領域確認をし一度にマスクデータを作成し、更に異なるリサイズ量により発生するデータスリットに対し補正をし、一度にマスクへのデータ転写する。【効果】異なるリサイズ量ごとにデータ作成をしないため、つまりマスク上でのデータ合成をしないため、高品質なマスクがえられる。
請求項（抜粋）：
半導体マスクデータ設計用CAD装置にて作成されたデータ(入力データと呼ぶ)とシステムの出力となる半導体製造用マスクデータ(出力データと呼ぶ)および入力データから出力データを得るまでのデータ加工条件を保管記憶する記憶部と、データの加工条件を入力するキーボードと、入力データから出力データを得るまでの演算制御をする制御部と、制御部より演算過程で発せられる情報を表示する表示部を具備 する半導体製造用マスクデータ作成システムにおいて、前記制御部において読み込まれた入力データに対し加工条件より指定された領域区分けの命令に従い入力データの領域区分を行う領域区分け手段を持つことを特徴とした半導体製造用マスクデータ作成システム。
IPC (2件)：
G03F 1/08
, G06F 15/60 370
