特許

J-GLOBAL ID：200903038785463946

レリーフ型回折光学素子、それを用いた光学系、およびレリーフ型回折光学素子製造用の型

発明者： 上原 靖弘
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-047782
公開番号（公開出願番号）：特開平10-239508
出願日： 1997年03月03日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】 集光点での強度が高く、かつ容易に製造できるレリーフ型回折光学素子を提供する。【解決手段】 不等間隔格子パターン2を有するレリーフ型回折光学素子1において、1つのゾーン内のレリーフ面の傾き角が異なる箇所を有する傾斜した断面を示す第1のゾーン群と、1つのゾーン内のレリーフ面の傾き角が一定に傾斜した直線の断面を示す第2のゾーン群とを有し、ピッチが最も大きいゾーンが前記第1のゾーン群に含まれる断面形状を有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

不等間隔格子パターンを有するレリーフ型回折光学素子において、1つのゾーン内のレリーフ面の傾き角が異なる箇所を有する傾斜した断面を示す第1のゾーン群と、1つのゾーン内のレリーフ面の傾き角が一定に傾斜した直線の断面を示す第2のゾーン群とを有し、ピッチが最も大きいゾーンが前記第1のゾーン群に含まれる断面形状を有することを特徴とするレリーフ型回折光学素子。