特許

J-GLOBAL ID：200903038791482847

レーザー照射光学系

発明者： 大利 祐一郎
出願人/特許権者： ミノルタ株式会社
代理人 (1件)： 佐野 静夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-305130
公開番号（公開出願番号）：特開2001-125040
出願日： 1999年10月27日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：

【要約】【課題】 強度分布が不均一で非等方的に発散するレーザービームを、照射対象面上での強度分布が均一なレーザービームに効率よく変換するレーザー照射光学系を提供する。【解決手段】 レーザーダイオードと互いに独立な2つの整形光学系でレーザー照射光学系を構成する。レーザーダイオードが発するビームはガウシアン型の強度分布を有し、第1の方向に大きく、これと直交する第2の方向に小さく発散する。第1の整形光学系は強度分布を第1の方向について均一化し、第2の光学系は第2の方向について均一化する。各整形光学系はコリメータレンズと整形用の回折素子より成り、両整形光学系の回折素子の開口数は略等しく設定される。

請求項（抜粋）：

強度分布が不均一なレーザービームを錐状に発する光源と、光源からのレーザービームを平行化し、平行化したレーザービームをその強度分布を変換しつつ光源から所定距離の収束位置に収束させて、収束位置におけるレーザービームの強度分布を略均一にする整形光学系を備えるレーザー照射光学系であって、光源が発するレーザービームの頂角が、互いに直交する第1の方向と第2の方向とで異なるものにおいて、光源からのレーザービームを第1の方向についてのみ平行化する第1のコリメータレンズと、第1のコリメータレンズからのレーザービームを、その強度分布を第1の方向についてのみ変換しつつ、第1の方向についてのみ収束させる第1の整形素子から成る第1の整形光学系と、光源からのレーザービームを第2の方向についてのみ平行化する第2のコリメータレンズと、第2のコリメータレンズからのレーザービームを、その強度分布を第2の方向についてのみ変換しつつ、第2の方向についてのみ収束させる第2の整形素子から成る第2の整形光学系とを備えることを特徴とするレーザー照射光学系。