低級炭化水素を原料とする水素の製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-388871
公開番号（公開出願番号）：特開2003-192301
出願日： 2001年12月21日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：

【要約】【課題】高活性な触媒を用いて比較的短時間で効率よく水素を製造できる炭化水素の分解方法を提供する。【解決手段】炭素数1〜4の低級炭化水素含有ガスをニッケルが担持されているH-ベータ型ゼオライトまたはH-ZSM-5型ゼオライト触媒と400〜800°Cで接触させて、低級炭化水素の分解反応により水素を製造する方法である。その原料の低級炭化水素含有ガスには、メタンまたはメタンと不活性ガスとの混合ガスを用いることが好ましい。

請求項（抜粋）：

炭素数1〜4の低級炭化水素含有ガスをニッケルが担持されているH-ベータ型ゼオライトまたはH-ZSM-5型ゼオライト触媒と400〜800°Cで接触させて、低級炭化水素の分解反応により水素を得ることを特徴とする水素の製造方法。

IPC (3件)：

C01B 3/26 , B01J 29/46 , B01J 29/76

FI (3件)：

C01B 3/26 , B01J 29/46 M , B01J 29/76 M

Fターム (16件)：

4G040DA03 , 4G040DC01 , 4G069AA03 , 4G069BA07A , 4G069BA07B , 4G069BB02A , 4G069BB02B , 4G069BC68A , 4G069BC68B , 4G069CC17 , 4G069ZA11A , 4G069ZA11B , 4G069ZA19A , 4G069ZA19B , 4G069ZF05A , 4G069ZF05B

引用文献：

審査官引用 (2件)

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