特許

J-GLOBAL ID：200903038807820152

還元剤添加弁

発明者： 岡嶋 正博 ,  永友 宏明 ,  黒柳 正利
出願人/特許権者： 株式会社デンソー
代理人 (1件)： 石黒 健二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-099962
公開番号（公開出願番号）：特開2008-255910
出願日： 2007年04月06日
公開日（公表日）： 2008年10月23日
要約：

【課題】還元剤の添加弁1の先端部、特に先端部の内部の温度上昇を効率的に抑制できる添加弁1を提供する。【解決手段】添加弁1の先端部において、外側流路44は、弁座部41と隣り合う位置まで延設されている。これにより、添加弁1において最も高温度になる先端部の内部に還元剤の循環流れを導入することができるので、先端部の温度上昇を効率的に抑制できる。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

弁ボディの内部に摺動自在に配され、前記弁ボディの先端内部に形成される弁座部に着座および離座し、排気流れ中に開口する噴孔を開閉する弁体と、 前記弁ボディの内部に設けられ、還元剤供給源より供給される還元剤を前記噴孔に供給可能となるように形成される還元剤供給室とを備え、 前記弁体の位置が調整されることで、排気流れ中に還元剤を噴射する還元剤添加弁において、 前記弁ボディの内部に形成される室空間であって、前記弁座部と隣り合う位置まで延設される還元剤副室と、 前記還元剤供給室と前記還元剤副室とを接続する連通路と、 前記還元剤副室の還元剤が前記還元剤供給源に戻るために設けられる流路の一部であって、前記還元剤副室と前記弁ボディの外部とを接続する戻り流路とを備えることを特徴とする還元剤添加弁。

IPC (3件)：

F01N 3/08 ,  F01N 3/00 ,  B01D 53/94

FI (3件)：

F01N3/08 B ,  F01N3/00 F ,  B01D53/36 101A

Fターム (26件)：

3G091AA18 ,  3G091AB02 ,  3G091AB04 ,  3G091AB13 ,  3G091BA14 ,  3G091BA15 ,  3G091BA19 ,  3G091CA17 ,  3G091EA17 ,  3G091EA22 ,  3G091EA33 ,  3G091HA10 ,  3G091HA16 ,  3G091HA37 ,  3G091HA42 ,  4D048AA06 ,  4D048AA13 ,  4D048AA14 ,  4D048AA18 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048AC03 ,  4D048CC32 ,  4D048CC41 ,  4D048CC47 ,  4D048CC61

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 配量装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-531657   出願人：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト