特許

J-GLOBAL ID：200903038826275386

オゾン水生成装置

発明者： 中村 知一郎
出願人/特許権者： トキコ株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-332323
公開番号（公開出願番号）：特開平9-168787
出願日： 1995年12月20日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：

【要約】【課題】 本発明は制御処理タイミングのずれによりオゾン水濃度の周期的な変化を制御濃度が変化したものと判断してオゾン発生量を調整してオゾン水濃度を変えてしまうといった問題を解決するものである。【解決手段】 オゾン水生成装置1は、オゾンガス発生器18により生成されたオゾンガスをエゼクタ22で水流に混入させ、エゼクタ22から吐出されたオゾン水を気液分離装置23に供給する。気液分離装置23は、エゼクタ22からオゾン水が供給される第1の気液分離槽27と、第1の気液分離槽27から溢れたオゾン水が供給される第2の気液分離槽28とよりなる。制御装置38は、第2の気液分離槽28の水位変動の周期毎に第2の気液分離槽28から吐出されたオゾン水の濃度をサンプリングすると共に、サンプリングされたオゾン水濃度の平均値に基づいてオゾン水濃度が設定濃度となるようにオゾンガス発生器18に印加される電圧値を調整する。

請求項（抜粋）：

酸素ガスよりオゾンガスを発生させるオゾンガス発生手段と、該オゾンガス発生手段から供給されたオゾンガスを水に混合する気液混合手段と、該気液混合手段から吐出されたオゾン水が流入されオゾン水より余分なオゾンガスを分離させる第1の気液分離槽と、該第1の気液分離槽から溢れたオゾン水が流入する第2の気液分離槽と、該第2の気液分離槽から吐出されるオゾン水濃度が予め設定されたオゾン水濃度設定値になるように該オゾンガス発生手段により生成されるオゾンガス発生量を制御する濃度制御手段と、を有するオゾン水生成装置において、前記第2の気液分離槽の水位変動の周期毎に前記第2の気液分離槽から吐出されたオゾン水の濃度をサンプリングするオゾン水濃度サンプリング手段を設けたことを特徴とするオゾン水生成装置。

IPC (7件)：

C02F 1/78 ,  B01F 1/00 ,  C01B 13/10 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50

FI (7件)：

C02F 1/78 ,  B01F 1/00 A ,  C01B 13/10 D ,  C02F 1/50 531 R ,  C02F 1/50 540 A ,  C02F 1/50 550 L ,  C02F 1/50 550 D