特許

J-GLOBAL ID：200903038826503656

多孔質シリカ膜及びその製造方法

発明者： 新保 外志夫 ,  金森 敏幸 ,  サムエル プリヤントロ クスモチャハョ ,  須藤 雅夫
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
代理人 (7件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-338213
公開番号（公開出願番号）：特開2004-168615
出願日： 2002年11月21日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：

【課題】シリカ膜の孔の平均径を1nm以上とすることで、ナノ粒子、例えば水や有機溶媒等の液状物質の分離・濾過が可能な多孔質シリカ膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明の多孔質シリカ膜は、支持体1上に形成された多孔質シリカ膜2であり、この多孔質シリカ膜2の孔の平均径が1nm以上であることを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

シリカ膜に多数の孔が形成されてなる多孔質シリカ膜であって、 前記孔の平均径が1nm以上であることを特徴とする多孔質シリカ膜。

IPC (5件)：

C01B33/12 ,  B01D69/12 ,  B01D71/02 ,  C04B41/87 ,  C04B41/89

FI (5件)：

C01B33/12 C ,  B01D69/12 ,  B01D71/02 ,  C04B41/87 A ,  C04B41/89 A

Fターム (29件)：

4D006GA07 ,  4D006MA06 ,  4D006MA09 ,  4D006MA22 ,  4D006MB02 ,  4D006MC03 ,  4D006MC03X ,  4D006NA46 ,  4D006NA50 ,  4D006NA54 ,  4D006NA62 ,  4D006NA64 ,  4D006PA01 ,  4D006PB12 ,  4D006PB13 ,  4D006PB22 ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072FF02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH18 ,  4G072HH30 ,  4G072MM01 ,  4G072MM36 ,  4G072NN21 ,  4G072RR05 ,  4G072RR12 ,  4G072UU11

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-063119
  
• 多孔質分離膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-134872   出願人：京セラ株式会社
• 水素ガス分離フィルタおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-309649   出願人：京セラ株式会社
• 特開平4-063119