厚膜パターン転写用凹版の元型およびその製造方法、厚膜パターン転写用凹版およびその製造方法、厚膜パターンの製造方法、プラズマディスプレイの背面基板及びその製造方法、プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-129001
公開番号（公開出願番号）：特開2002-046249
出願日： 2001年04月26日
公開日（公表日）： 2002年02月12日
要約：

【要約】【課題】厚膜パターンを形成するため凹版の元型となる凸版であって、該凸版を高精細、高アスペクト比、高位置精度、強度を保持している凸版を提供すること。【解決手段】厚膜パターンを形成するための凸版であって、基板と感光性レジストによるパターンからなることを特徴とする厚膜パターン形成用凸版である。この凸版に十分な強度を付与するため、基板と感光性レジストパターンの間の中間層、金属あるいは金属酸化物による表面コーティング層、および側面および底部に樹脂層を配置した。

請求項（抜粋）：

厚膜パターン転写用凹版の元型であって、該元型が少なくとも平面基板と感光性材料層からなる凸部とから構成され、該凸部の最小幅が20〜100μm、アスペクト比が1以上であることを特徴とする厚膜パターン転写用凹版の元型。

IPC (7件)：

B41C 3/06 , G03F 7/095 , G03F 7/11 503 , G03F 7/40 521 , H01J 9/02 , H01J 11/02 , H05K 3/12 630

FI (7件)：

B41C 3/06 , G03F 7/095 , G03F 7/11 503 , G03F 7/40 521 , H01J 9/02 F , H01J 11/02 B , H05K 3/12 630 Z

Fターム (29件)：

2H025AA02 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025DA12 , 2H025DA35 , 2H025EA08 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 2H025FA39 , 2H025FA43 , 2H084AA30 , 2H084AA31 , 2H084AA36 , 2H084BB04 , 2H084BB13 , 2H084CC10 , 2H096AA00 , 2H096AA27 , 2H096CA05 , 2H096CA16 , 2H096EA02 , 2H096HA27 , 2H096HA30 , 2H096JA04 , 2H096KA10 , 5C027AA09 , 5C040GF19 , 5E343FF02

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平4-062057
隔壁転写凹版用の元型及びそれを用いたプラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-177305 出願人：富士通株式会社
特開平4-062057

前のページに戻る