特許

J-GLOBAL ID：200903038837611620

基板上の光触媒被膜の製造方法

発明者： ヨハネス アンドレアス マリア アンメルラーン ,  リチャード ヨセフ マッカーディ ,  サイモン ジェームス ハースト
出願人/特許権者： ピルキントン パブリック リミテッド カンパニー ,  ピルキントン ノース アメリカ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 杉村 興作 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-501572
公開番号（公開出願番号）：特表2003-501338
出願日： 2000年06月01日
公開日（公表日）： 2003年01月14日
要約：

【要約】【課題】 良好な耐久性、高光触媒活性、及び低可視光反射率を有する光触媒活性被膜基板の製造方法の提供。【解決手段】 基板が少なくとも600°Cの温度である時に基板の表面をチタン源及び酸素源を含む流体混合物に接触させることにより、基板表面上に酸化チタン被膜を析出することによる光触媒活性被膜基板の製造方法。

請求項（抜粋）：

基板が少なくとも600°Cの温度である時に、該基板の表面をチタン源及び酸素源を含む流体混合物に接触させることにより、基板表面上に酸化チタン被膜を析出することを含み、それにより前記基板の被膜面の光触媒活性が5×10-3cm-1min-1より大きく、被膜側で測定した可視光反射率が35%以下である、光触媒活性被膜基板の製造方法。

IPC (6件)：

C03C 17/245 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  C03C 17/34 ,  C03C 27/06 101 ,  C03C 27/12

FI (6件)：

C03C 17/245 Z ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  C03C 17/34 Z ,  C03C 27/06 101 H ,  C03C 27/12 Z

Fターム (30件)：

4G059AA01 ,  4G059AB14 ,  4G059AC04 ,  4G059AC18 ,  4G059AC30 ,  4G059EA04 ,  4G059EA05 ,  4G059EB01 ,  4G059GA01 ,  4G059GA04 ,  4G059GA12 ,  4G061AA00 ,  4G061AA18 ,  4G061CB03 ,  4G061CB19 ,  4G061CD02 ,  4G061CD19 ,  4G061CD21 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA14A ,  4G069BA14B ,  4G069BA48A ,  4G069CA10 ,  4G069EA08 ,  4G069FB03