特許

J-GLOBAL ID：200903038838506308

多層磁気抵抗効果膜および磁気ヘッド

発明者： 中谷 亮一 ,  杉田 愃
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-213962
公開番号（公開出願番号）：特開平6-061048
出願日： 1992年08月11日
公開日（公表日）： 1994年03月04日
要約：

【要約】【目的】 本発明の目的は、Ni-Fe系合金を用いた多層磁気抵抗効果膜の磁気抵抗変化率を向上する方法を提供することにある。【構成】 多層磁気抵抗効果膜の磁気抵抗変化率を向上するために、Ni-Fe系合金磁性層の結晶の(100)面を基板に平行に配向させた。これにより、高い磁気抵抗変化率を示す多層膜が得られた。また、上記Ni-Fe合金層の厚さを2.5〜5.0nmとした。また、上記多層磁気抵抗効果膜を磁気抵抗効果素子、磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置に用いた。【効果】 本発明の多層磁気抵抗効果膜は高い磁気抵抗変化率を示す。また、上記多層磁気抵抗効果膜を使用した磁気ヘッドは、優れた再生特性を示した。また、上記磁気ヘッドを磁気記録再生装置に用いることにより、高性能磁気記録再生装置が得られた。

請求項（抜粋）：

磁性層と非磁性層を積層した多層膜を用いた多層磁気抵抗効果膜において、上記磁性層が面心立方格子構造を有するNi-Fe系合金であり、上記磁性層の結晶の(100)面が基板と平行になるように配向していることを特徴とする多層磁気抵抗効果膜。

IPC (3件)：

H01F 10/14 ,  G11B 5/127 ,  G11B 5/39