特許
J-GLOBAL ID:200903038847406901
プラズマ処理装置の監視方法およびプラズマ処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
亀谷 美明
, 金本 哲男
, 萩原 康司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-196932
公開番号(公開出願番号):特開2004-039952
出願日: 2002年07月05日
公開日(公表日): 2004年02月05日
要約:
【課題】一定時間稼働後も,正確に光学的データを測定して,常に正常な状態でプラズマ処理装置を稼働できるプラズマ処理装置の監視方法およびプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマ処理装置100に付設された光学的データを検出する光学検出器20を含む複数の検出器を用いて,被処理体毎に検出される各検出器の検出値を利用して,プラズマ処理装置100の運転状態を監視する方法であって,光学的データを検出する光学検出器20の,プラズマ処理装置100の検出値の変動を,光学検出器20に対向して設けられた光源30からの発光強度を各処理直前に検出し,プラズマ処理装置100の初期状態における光源30からの発光強度と比較して光学的データの補正を行うと共に,一定量以下に発光強度が減衰した場合には,警報を発する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
少なくとも処理室内の光を検出する光学検出器を含む複数の検出器を用いて被処理体毎に検出された前記各検出器の検出値を解析用データとして利用して多変量解析を行い,その結果に基づいてプラズマ処理に関する情報を監視するプラズマ処理装置の監視方法であって,
前記光学検出器における前記プラズマ処理装置の検出値の変動を検出する変動量検出段階と,
前記変動量に基づいて前記検出値を補正して前記解析用データとする補正段階と,
を有することを特徴とするプラズマ処理装置の監視方法。
IPC (3件):
H01L21/3065
, C23C16/52
, H01L21/205
FI (3件):
H01L21/302 103
, C23C16/52
, H01L21/205
Fターム (28件):
4K030FA01
, 4K030HA12
, 4K030HA16
, 4K030KA39
, 4K030LA15
, 5F004AA01
, 5F004AA15
, 5F004AA16
, 5F004BA04
, 5F004BA06
, 5F004BB13
, 5F004BB22
, 5F004BB28
, 5F004CA09
, 5F004CB02
, 5F004DA00
, 5F004DA23
, 5F004DA26
, 5F045AA08
, 5F045BB20
, 5F045EB05
, 5F045EC03
, 5F045EH14
, 5F045EM05
, 5F045GB01
, 5F045GB08
, 5F045GB16
, 5F045GB17
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