特許
J-GLOBAL ID:200903038853645047

ヘアトリートメント組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川口 義雄 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-544992
公開番号(公開出願番号):特表2001-524093
出願日: 1998年04月17日
公開日(公表日): 2001年11月27日
要約:
【要約】ヘアトリートメント剤及び一般式(I)[式中、R1=(CH2)3-(NH-(CH2)2)Z-NH2であり、R2=(CH2)3-(NH-(CH2)2)Z-NH-CO-CH2-O-EOx-(CH2)y-CH3であり、lは100〜1500の範囲内であり、mは0〜10の範囲内であり、nは2〜50の範囲内であり、xは1〜40の範囲内であり、yは0〜21の範囲内であり、zは0〜1の範囲内である]で表されるアミドポリエーテル官能基化シリコーンを含有する、局所適用のためのヘアトリートメント組成物。
請求項(抜粋):
一般式(I)[式中、R1=(CH2)3-(NH-(CH2)2)Z-NH2及び R2=(CH2)3-(NH-(CH2)2)Z-NH-CO-CH2-O-EOx-(CH2)y-CH3であり lは100〜1500の範囲内であり、mは0〜10の範囲内であり、nは2〜50の範囲内であり、xは1〜40の範囲内であり、yは0〜21の範囲内であり、zは0〜1の範囲内である]で表されるアミドポリエーテル官能基化シリコーンを含有する、局所適用のためのヘアトリートメント組成物。
IPC (3件):
A61K 7/06 ,  C08G 77/452 ,  C08G 77/46
FI (3件):
A61K 7/06 ,  C08G 77/452 ,  C08G 77/46

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