特許

J-GLOBAL ID：200903038855470538

フラーレン含有感光材料およびレジスト並びにそれを用いたパターン形成方法

発明者： 松浦 幸仁
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 小池 隆彌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-019393
公開番号（公開出願番号）：特開2000-221680
出願日： 1999年01月28日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：

【要約】【課題】 化学増幅型レジストでは露光後に放置すると、現像後のレジスト形状が劣化する。【解決手段】 フラーレンとアミノ基を有する物質とからなる感光材料を用い、この光化学反応を利用して架橋型化学結合させたものをフォトリソグラフィー用レジストとして用いる。

請求項（抜粋）：

アミノ基を有する物質とフラーレンからなる感光材料。

IPC (2件)：

G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/038 505 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (10件)：

2H025AA06 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AD01 ,  2H025BD01 ,  2H025CB19 ,  2H025CB41 ,  2H025CB47 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17