特許
J-GLOBAL ID:200903038867438079

レーザー装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高田 守 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-161316
公開番号(公開出願番号):特開平5-013862
出願日: 1991年07月02日
公開日(公表日): 1993年01月22日
要約:
【要約】【目的】 エタロンをスペクトル狭帯域化素子として利用するレーザー装置の、発振、停止にともなうエタロン熱変形を防止し、レーザーのスペクトル変化を抑制するレーザー装置を提供する。【構成】 ?@発振と停止期間を示す指令により、たとえば熱ビーム発生装置と反射ミラーからなる加熱装置で、停止中のみエタロンに熱を加える、?Aエタロンホルダー内に、発熱素子と温度センサーを設け発振停止中のみ発熱素子でホルダー内の気体を加熱し、温度センサーで温度を検知する、構成として、発振中と停止中のエタロンの変形量を同一にした。
請求項(抜粋):
粗調用のファブリペローエタロンと微調用のファブリペローエタロンの二つのスペクトル狭帯域化素子を有するレーザー装置において、レーザーの発振と停止による前記両エタロンの熱変形によって生じるスペクトル狭帯域化性能変化に対し、発振と停止を制御する制御系からの指令により、発振の停止中のみ前記両エタロンを加熱し前記両エタロンの熱変形を阻止する加熱手段を具備することを特徴とするレーザー装置。
IPC (2件):
H01S 3/137 ,  G01J 3/26

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