特許
J-GLOBAL ID:200903038880914726

マイクロアクチュエータおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤本 昇 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-289833
公開番号(公開出願番号):特開2003-101091
出願日: 2001年09月21日
公開日(公表日): 2003年04月04日
要約:
【要約】【課題】 酸化物薄膜の圧電定数が大きく、低電圧で大きな変位を得ることが可能なマイクロアクチュエータを提供することを課題とし、また、P-Eヒステリシス特性にも優れたマイクロアクチュエータを提供することを課題とする。【解決手段】 ウエットな方法又はドライな方法のいずれか一方により形成された酸化物薄膜と、前記ウエットな方法又はドライな方法の他方により前記酸化物薄膜の上に形成された酸化物薄膜とからなることを特徴とするマイクロアクチュエータを解決手段とする。
請求項(抜粋):
ウエットな方法又はドライな方法のいずれか一方により形成された酸化物薄膜と、前記ウエットな方法又はドライな方法の他方により前記酸化物薄膜の上に形成された酸化物薄膜とからなることを特徴とするマイクロアクチュエータ。
IPC (5件):
H01L 41/08 ,  C23C 14/34 ,  H01L 41/18 ,  H01L 41/187 ,  H01L 41/22
FI (7件):
C23C 14/34 N ,  H01L 41/08 D ,  H01L 41/22 Z ,  H01L 41/18 101 D ,  H01L 41/18 101 Z ,  H01L 41/18 101 B ,  H01L 41/18 101 C
Fターム (5件):
4K029AA06 ,  4K029BA50 ,  4K029BB02 ,  4K029BD03 ,  4K029CA05

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