特許
J-GLOBAL ID:200903038887358780

高純度結晶質シリカの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐野 英一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-350308
公開番号(公開出願番号):特開平6-016413
出願日: 1991年12月09日
公開日(公表日): 1994年01月25日
要約:
【要約】【目的】 高純度石英ガラス原料として適した、シラノ-ル基含有量が少ない結晶質シリカの製造方法を提供することにある。【構成】 高純度非晶質シリカを、アルカリ金属を500ppm以上含むアルミナ匣鉢中で1200°C以上の温度で焼成することによりクリストバライトに結晶化することを特徴とする高純度結晶質シリカの製造方法であり、このとき紫外線を照射しながら焼成することにより、あるいは、超音波を照射しながら焼成することにより結晶化を促進できる。こうして得られた結晶質シリカは高純度でシラノ-ル基含有量が少なく、高純度、高耐熱性石英ガラス原料として有用である。
請求項(抜粋):
高純度非晶質シリカ粒子をアルカリ金属を500ppm以上含むアルミナ匣鉢内で1200°C以上の温度で焼成することにより結晶化することを特徴とする高純度結晶質シリカの製造方法。

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