表面形状検出装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：後呂和男 , ▲高▼木芳之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-126727
公開番号（公開出願番号）：特開2005-308578
出願日： 2004年04月22日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：

【課題】外乱光などによる影響を排除しつつ表面形状の測定精度の向上を図ることが可能な表面形状検出装置を提供する。【解決手段】最大受光位置P,P’が最も多く集中するクラス領域を集中クラス領域から2クラス以上離れた最大受光位置を無視し、集中クラス領域からの距離が1クラス内にある他の候補画素位置データを有効化する構成とした。これにより、外乱光によるものとして最大受光位置が無効化され欠落した部分について対象物体表面からの反射光による正規の受光位置の候補画素位置情報に基づき正確な表面形状の測定が可能になる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

対象物体の表面上に線状に光を照射する投光手段と、前記投光手段から照射され前記対象物体表面で反射した反射光を受光する二次元撮像手段と、前記二次元撮像手段の撮像面上の各画素での受光レベルに応じた受光信号を、前記投光手段からの光の線状方向に交差する所定の走査方向に沿った走査線毎に取り出し、前記各走査線毎に、当該走査線上において複数の画素位置を候補画素位置として検出する受光位置検出手段と、前記受光位置検出手段で前記各走査線毎に検出された前記複数の候補画素位置情報を、当該各走査線に対応付けて記憶する記憶手段と、前記各走査線毎に、前記記憶手段に記憶された候補画素位置情報のうち最大の受光レベルである最大受光位置情報を取得し、その走査線に対して所定距離範囲内にある他の走査線上における最大受光位置との前記走査方向における位置偏差が所定値以内である最大受光位置情報だけを、当該走査線上における正規の受光位置として有効化する第1有効化手段と、前記第1有効化手段で最大受光位置情報が有効化されなかった走査線について、その最大受光位置情報以外の他の候補画素位置情報であって、前記他の走査線上における最大受光位置との前記走査方向における位置偏差が所定値以内である候補画素位置情報を1つ、当該走査線上における正規の受光位置として有効化する第2有効化手段と、前記第1有効化手段及び第2有効化手段で有効化された候補画素位置情報に基づいて前記対象物体の表面形状を測定する測定手段とを備えたことを特徴とする表面形状検出装置。

IPC (1件)：

G01B11/24

FI (1件)：

G01B11/24 K

Fターム (20件)：

2F065AA53 , 2F065BB05 , 2F065CC13 , 2F065DD12 , 2F065FF01 , 2F065FF02 , 2F065FF09 , 2F065GG04 , 2F065HH05 , 2F065HH12 , 2F065JJ03 , 2F065JJ08 , 2F065JJ26 , 2F065LL08 , 2F065LL28 , 2F065MM04 , 2F065PP13 , 2F065QQ23 , 2F065QQ24 , 2F065QQ29

引用特許：

出願人引用 (1件)

変位センサ
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-086447 出願人：オムロン株式会社

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