特許
J-GLOBAL ID:200903038898411624

全流及びバイパス複合式フィルタ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 萼 経夫 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-381996
公開番号(公開出願番号):特開2001-212410
出願日: 2000年12月15日
公開日(公表日): 2001年08月07日
要約:
【要約】【課題】耐用期間を延長した全流及びバイパス複合式フィルタを提供すること。【解決手段】浄化可能でバックフラッシュ可能かつ再使用可能な全流及びバイパス複合式フィルタである。全流フィルタエレメント30と、バイパスフィルタエレメント70と、バイパスチューブ74と、ベンチュリ管84を含み、バイパスチューブ74内の流動方向をベンチュリ管84で変化する。バックフラッシュ浄化時に、バックフラッシュデフレクタ110はベンチュリ管84内のバイパスチューブ74出口端部でバイパスチューブ74内の浄化流の軸方向流を放射状流に変化し、浄化流のバイパスチューブ74からフィルタ出口までの直線状流を防ぐ。バイパスチューブ74とベンチュリ管84スロートの間に吹出口を備え、浄化流を全流フィルタエレメント30の中空室領域まで飛越させ、全流フィルタエレメント30を飛散しかつバックフラッシュする。
請求項(抜粋):
濾過された第1流を供給する全流フィルタエレメントと、濾過された第2流を供給するバイパスフィルタエレメントと、前記バイパスフィルタエレメント内を通過した後の濾過された第2流を導き、かつ前記全流フィルタエレメント内を通過した後、前記濾過された第2流を前記濾過された第1流と合流させるバイパスチューブと、前記バイパスフィルタエレメント内を流れる前記第2流の吸上げを促進するために前記バイパスチューブ内を流れる前記第2流を補助する低圧力領域を形成するベンチュリ管とを含む、全流及びバイパス複合式フィルタであり、ここで前記バイパスチューブ内を流れる流体は前記ベンチュリ管で方向を変化させることを特徴とする全流及びバイパス複合式フィルタ。
IPC (4件):
B01D 29/11 ,  B01D 29/66 ,  B01D 29/92 ,  F01M 11/03
FI (7件):
F01M 11/03 L ,  B01D 29/10 520 Z ,  B01D 29/10 501 C ,  B01D 29/10 510 C ,  B01D 29/10 530 B ,  B01D 29/38 510 C ,  B01D 29/42 510

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