特許

J-GLOBAL ID：200903038916353084

全反射蛍光X線分析装置

発明者： 堀内 和志
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 恩田 博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-069911
公開番号（公開出願番号）：特開平6-281600
出願日： 1993年03月29日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：

【要約】【目的】高精度であると共に簡単な構成で安価な表面検査系を備えた全反射蛍光X線分析装置を提供する。【構成】全反射蛍光X線分析装置本体11に隣接してカセット置き台12が設けられている。装置本体11とカセット置き台12との間にはウェーハ搬送ロボット13が設けられている。カセット14にはウェーハ15が複数枚搭載されている。装置本体11とカセット置き台12とに隣接して、本実施例の表面検査系である光学顕微鏡装置16が設けられている。光学顕微鏡装置16は光学顕微鏡17とウェーハ・ステージ18とから構成されている。また、ウェーハ・ステージ18には、X-Y方向に位置決め手段としての移動スケール18aが設けられている。

請求項（抜粋）：

低照射角で照射されたX線を全反射する光学的に平滑な面を有した部材と、その部材の光学的に平滑な面上に座標を設定し、当該部材の位置決めを行う位置決め手段と、光学顕微鏡とを備えたことを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-125609
  
• 特開平2-114402
  
• 特開平3-172999