特許

J-GLOBAL ID：200903038934548577

高速熱処理方法および処理装置

発明者： 李 佶洸 ,  藤原 和幸
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 服部 雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-128345
公開番号（公開出願番号）：特開平8-070008
出願日： 1995年05月26日
公開日（公表日）： 1996年03月12日
要約：

【要約】【目的】 熱履歴を減らし、スリップの発生を防止できる、高速熱処理方法および処理装置を提供する。【構成】 一定温度に維持された下部均熱領域34で行われる低温熱処理工程と、一定温度に維持された上部均熱領域32で行われる高温熱処理工程とを同一の反応炉22内で順次的に行う高速熱処理方法である。この高速熱処理方法に使用される高速熱処理装置は、内部が真空処理された反応炉22と、反応炉22の外面の上部に位置し反応炉22を取り囲むリング状の第1加熱器24と、反応炉22の外面の下部であって第1加熱器24の下方に位置し反応炉を取り囲むリング状の第2加熱器30とを含む。

請求項（抜粋）：

一定温度に維持された低温熱処理部において行われる低温熱処理工程と、一定温度に維持された高温熱処理部において行われる高温熱処理工程とを同一の反応炉内で順次的に行うことを特徴とする高速熱処理方法。