特許
J-GLOBAL ID:200903038938973566
電子光学系アレイとこの作製方法、荷電粒子線露光装置ならびにデバイス製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西山 恵三 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-097126
公開番号(公開出願番号):特開2001-283755
出願日: 2000年03月31日
公開日(公表日): 2001年10月12日
要約:
【要約】【課題】 小型化、高精度化、信頼性といった各種条件を高いレベルで実現した電子光学系アレイの提供。【解決手段】 それぞれが、複数の開口が形成されたメンブレンと該メンブレンを支持する支持基板を備えた上電極、シールド電極、中間電極、シールド電極、および下電極が順に積層され、前記メンブレン同士が空間絶縁された構造を有し、前記各電極それぞれの支持基板同士が直接接合されている。接合は絶縁膜を介した直接接合である。
請求項(抜粋):
それぞれが、開口が形成されたメンブレンと該メンブレンを支持する支持基板を備えた第1電極および第2電極が積層され、前記メンブレン同士が空間絶縁された構造を有し、前記第1電極と第2電極のそれぞれの支持基板同士が直接接合されていることを特徴とする電子光学系アレイ。
IPC (4件):
H01J 37/04
, G03F 7/20 504
, H01J 37/12
, H01L 21/027
FI (5件):
H01J 37/04 Z
, G03F 7/20 504
, H01J 37/12
, H01L 21/30 502 G
, H01L 21/30 541 A
Fターム (13件):
2H097CA16
, 2H097GB01
, 2H097LA10
, 5C030BB01
, 5C030BB11
, 5C030BB12
, 5C033CC01
, 5F046AA28
, 5F056AA33
, 5F056EA03
, 5F056EA04
, 5F056EA05
, 5F056EA06
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