特許
J-GLOBAL ID:200903038945886636

被覆用ケイ素組成物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 八田 幹雄 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-025449
公開番号(公開出願番号):特開2003-221551
出願日: 2002年02月01日
公開日(公表日): 2003年08月08日
要約:
【要約】【課題】 表面平滑性に優れる被覆用ケイ素組成物を提供する。【解決手段】 SiOR1基を有する化合物(A)を炭素数1〜3の水溶性有機溶媒(B)中で加水分解縮合し、次いで沸点100〜250°Cの化合物(C)を加えることを特徴とする被覆用ケイ素組成物の製造方法である。該方法によって得られる被覆用ケイ素組成物は、表面平滑性に優れるため特にカラーフィルター用オーバーコート剤に適し、該コート剤を被覆したカラーフィルターからは、鮮明な画像が得られる。
請求項(抜粋):
SiOR1基(ただし、R1は、水素原子、アルキル基またはアシル基である。)を有する化合物(A)を炭素数1〜3の水溶性有機溶媒(B)中で加水分解縮合し、次いで沸点100〜250°Cの化合物(C)を加えることを特徴とする被覆用ケイ素組成物の製造方法。
IPC (2件):
C09D183/00 ,  G02B 5/20 101
FI (2件):
C09D183/00 ,  G02B 5/20 101
Fターム (4件):
2H048BB28 ,  2H048BB37 ,  4J038DL031 ,  4J038DL081

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