特許

J-GLOBAL ID：200903038947823828

パティキュレ-トトラップ装置及びそれ用のシ-ル材

発明者： 関 正典 ,  山崎 達生 ,  大坂 茂 ,  鈴木 恵一朗 ,  竹佐 和彦
出願人/特許権者： 日本ピラー工業株式会社 ,  旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 外山 三郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-187262
公開番号（公開出願番号）：特開平11-019441
出願日： 1997年06月30日
公開日（公表日）： 1999年01月26日
要約：

【要約】【課題】水分等が存在しても塵漏れが生じにくい中抜き枠形状のシ-ル材及びこのシ-ル材を使用したパティキュレ-トトラップ装置を提供する。【解決手段】中抜き形状の枠体の枠部分の上下面の少なくともフィルタと接触する面側に、防水処理を施した加熱時に膨張する成分を含む無機質マットが配置されている。

請求項（抜粋）：

ろ過壁で区画された含塵ガス流路と清浄ガス流路とを備えるフィルタがシ-ル材を介して金属ケ-ス内に保持され、清浄ガス流路側からろ過壁を通過して含塵ガス流路へ流れる逆流ガスを発生させる逆流手段によってフィルタの再生が行なわれるパティキュレ-トトラップ装置であって、上記シ-ル材の中抜き形状の枠体の枠部分の上下面の少なくともフィルタと接触する面側に、防水処理を施した加熱時に膨張する成分を含む無機質マットが配置されていることを特徴とするパティキュレ-トトラップ装置。

IPC (3件)：

B01D 46/30 ,  F01N 3/02 301 ,  F01N 3/02

FI (3件)：

B01D 46/30 B ,  F01N 3/02 301 M ,  F01N 3/02 301 Z