特許
J-GLOBAL ID:200903038953544710

プラズマ・アドレス装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-234143
公開番号(公開出願番号):特開平6-222347
出願日: 1993年08月26日
公開日(公表日): 1994年08月12日
要約:
【要約】【目的】不都合なプラズマ放電を発生させないプラズマ・アドレス装置を提供すること。【構成】一主面上に複数のチャネル20’が形成された基板54と、上記チャネルの各々の中に長手方向に沿って設けられた第1及び第2チャネル電極62及び30とを有し、上記複数のチャネル内に封入されたイオン化可能ガス媒体を選択的に放電させるプラズマ・アドレス装置において、上記第1チャネル電極の一端110を上記チャネルの一端102から少なくとも所定距離Dだけ離間するように上記第1チャネル電極の上記一端110を上記チャネル20’内に引き込ませる。【効果】チャネル外部にイオンが拡散するのを防止し、不都合な放電現象を抑圧できる。
請求項(抜粋):
一主面上に複数のチャネルが形成された基板と、上記チャネルの各々の中に長手方向に沿って設けられた第1及び第2チャネル電極とを有し、上記複数のチャネル内に封入されたイオン化可能ガス媒体を選択的に放電させるプラズマ・アドレス装置において、上記第1チャネル電極の一端を上記チャネルの一端から少なくとも所定距離だけ離間するように上記第1チャネル電極の上記一端を上記チャネル内に引き込ませたことを特徴とするプラズマ・アドレス装置。
IPC (3件):
G02F 1/1333 ,  G09G 3/20 ,  H01J 17/49

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