特許
J-GLOBAL ID：200903038957447328
パターン走査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-301106
公開番号（公開出願番号）：特開平5-113549
出願日： 1991年10月21日
公開日（公表日）： 1993年05月07日
要約：
【要約】【目的】 光ビームの走査の位置変動又は歪曲を最小限に抑える。【構成】 光源からの光ビームを所定の方向に主走査する走査手段と、その主走査の方向と直交する方向にその走査手段に対して相対的に移動してその光ビームの副走査を行うステージとを有するラスタ走査方式のパターン走査装置において、そのステージ上に配置された走査位置の検出手段17と、この検出手段17からの検出信号に基づいてその光ビームのそのステージ上における位置のずれを求める演算手段18と、この演算手段18により求められた位置のずれを打ち消すようにその光ビームの走査位置の位置変動を補正する位置変動補償手段19と、走査位置の歪曲を補正する歪曲補償手段22とを有する。
請求項（抜粋）：
光源からの光ビームを所定の方向に主走査する走査手段と、前記主走査の方向と直交する方向に前記走査手段に対して相対的に移動して前記光ビームの副走査を行うステージとを有するラスタ走査方式のパターン走査装置において、前記ステージ上に配置された光ビーム検出手段と、該光ビーム検出手段からの検出信号に基づいて前記光ビームの前記ステージ上における位置のずれを求める演算手段と、該演算手段により求められた位置のずれを打ち消すように前記光ビームの前記主走査の方向又は前記副走査の方向の走査位置を補正する自己校正手段とを有する事を特徴とするパターン走査装置。
IPC (2件)：
G02B 26/10 102
, H04N 1/04 104
