特許

J-GLOBAL ID：200903038957599276

製造装置及び清浄方法

発明者： 筒井 裕二 ,  森田 真登 ,  中 裕之 ,  山本 章博
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-073535
公開番号（公開出願番号）：特開平9-264575
出願日： 1996年03月28日
公開日（公表日）： 1997年10月07日
要約：

【要約】【課題】 粉塵や不要成分物質等を嫌う各種加工・組立処理を行うために、一般的クリーンルームやクリーン空間路装置のようなクリーン環境設備の莫大な投資や維持管理費を要しない安価なクリーン空間を実現して、製品の品質向上や原価削減に貢献する。【解決手段】 製造装置内及びその処理空間を、装置外部環境より清浄な雰囲気にする清浄機構を装置本体内部に備える。

請求項（抜粋）：

部品または製品等の被処理物を処理するために清浄な雰囲気を必要とする製造装置において、装置内の雰囲気を除去フィルターを通して循環させ、あるいは清浄気体を供給すること等により、装置内に存在する粉塵または不要成分物質を装置内から除去する清浄手段を備えた製造装置。

IPC (3件)：

F24F 7/007 ,  F24F 7/06 ,  H01L 21/02

FI (3件)：

F24F 7/007 ,  F24F 7/06 C ,  H01L 21/02 D