特許
J-GLOBAL ID:200903038957671309

磁気記録媒体およびその製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 丸木 良久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-130024
公開番号(公開出願番号):特開平5-303736
出願日: 1992年04月23日
公開日(公表日): 1993年11月16日
要約:
【要約】【構成】基板上に下地膜を介するか、或いは、直接成膜されたCo系磁性薄膜を有する磁気記録媒体であり、磁性薄膜がイオン注入によって薄膜面内に圧縮応力および/または局所的応力が導入されていることを特徴とする面内保磁力の高い磁気記録媒体を第1の発明とし、水平磁気記録媒体として使用されるCo系磁性薄膜を基板上に、薄膜成膜法により成膜を行った後、B、C、N、OおよびAr、Ne等の希ガスの1種以上を1×1016/cm2以上のドープ量でイオン注入を行うことにより、薄膜の飽和磁化を低下させる事なく、面内の保磁力を高くすることを特徴とする磁気記録媒体の製造法を第2発明とする2つの発明よりなるものである。【効果】高い残留磁化Brδを有しており、さらに、保磁力Hcにも優れている磁気記録媒体、即ち、高密度記録可能な磁気記録媒体を得ることができる。
請求項(抜粋):
基板上に下地膜を介するか、或いは、直接成膜されたCo系磁性薄膜を有する磁気記録媒体であり、磁性薄膜がイオン注入によって薄膜面内に圧縮応力および/または局所的応力が導入されていることを特徴とする面内保磁力の高い磁気記録媒体。
IPC (4件):
G11B 5/66 ,  C23C 14/14 ,  C23C 14/48 ,  G11B 5/84

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