特許

J-GLOBAL ID：200903038958550157

複合ガス分離膜とその製造法

発明者： ジェフリー・ジェイ・チョウ
出願人/特許権者： ヘキスト・セラニーズ・コーポレーション
代理人 (1件)： 湯浅 恭三 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-318097
公開番号（公開出願番号）：特開平6-269650
出願日： 1993年12月17日
公開日（公表日）： 1994年09月27日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、複合ガス分離膜とその製造法を提供する。【構成】 本発明の複合ガス分離膜は、(a) ポリアクリロニトリル表面を有する多孔質ポリアクリロニトリル構造支持体材料;(b) 前記構造支持体材料のポリアクリロニトリル表面上に配置された、架橋したフェニル含有極性オルガノポリシロキサン材料を含むガター層被膜、このとき前記ガター層被膜は未被覆のガター層表面を残している;および(c) 前記未被覆のガター層表面を被覆している6FDAタイプの極薄ポリイミド選択膜層;を含む。好ましい実施態様においては、フェニル含有オルガノポリシロキサン材料はさらにシリカゾルを含む。複合ガス分離膜を製造する方法、およびこうした複合膜を使用してガスの分離を行う方法も提供されている。

請求項（抜粋）：

(A) ポリアクリロニトリル表面を有する多孔質ポリアクリロニトリル構造支持体材料;(B) 前記構造支持材料のポリアクリロニトリル表面上に配置された、架橋したフェニル含有極性オルガノポリシロキサン材料を含むガター層被膜、このとき前記ガター層被膜は未被覆のガター層表面を残している;および(C) 前記未被覆のガター層表面を被覆している6FDAタイプの極薄ポリイミド選択膜層;を含む複合ガス分離膜。

IPC (5件)：

B01D 71/70 500 ,  B01D 71/42 ,  B32B 9/00 ,  B32B 27/00 101 ,  B32B 7/02

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭53-086684
  
• 特開昭63-012303