特許

J-GLOBAL ID：200903038958894042

アスパラギン酸/トリルトリアゾールを用いる化学的機械的平坦化のための調整可能な組成物および方法

発明者： ジュネイド アフメッド シディクイ ,  ティモシー フレデリック コンプトン ,  ビン フー ,  ロビン エドワード リチャーズ
出願人/特許権者： デュポン エア プロダクツ ナノマテリアルズ,リミティド ライアビリティ カンパニー
代理人 (5件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  西山 雅也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-297761
公開番号（公開出願番号）：特開2005-167204
出願日： 2004年10月12日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：

【課題】銅CMPにおいて銅に対するタンタルの高い選択性を与え、研磨性能に関して調整可能な、化学的機械的平坦化または他の研磨用の組成物および関連する方法を提供する。【解決手段】前記組成物は、研磨材およびN-アシル-N-ヒドロカルボノキシアルキルアスパラギン酸化合物および/またはトリルトリアゾール誘導体を含んでなる。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

以下を含んでなる研磨組成物: a)研磨剤;および b)以下の式を有するN-アシル-N-ヒドロカルボノキシアルキルアスパラギン酸化合物:

IPC (3件)：

H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

FI (5件)：

H01L21/304 622D ,  H01L21/304 622X ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550D ,  C09K3/14 550Z

Fターム (6件)：

3C058AA07 ,  3C058CB01 ,  3C058CB04 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17