特許
J-GLOBAL ID：200903038981336359
プリント基板の洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松本 昂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-176584
公開番号（公開出願番号）：特開平8-046333
出願日： 1994年07月28日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：
【要約】【目的】 本発明はプリント基板の銅パターンの酸化膜除去処理を行った後における洗浄方法に関し、半田付け不良の発生の防止を目的とする。【構成】 プリント基板の銅パターンの酸化膜除去処理を行った後、プリント基板をアルカリ性水溶液で洗浄するようにしたものである。
請求項（抜粋）：
プリント基板の銅パターンの酸化膜除去処理を行った後、該プリント基板をアルカリ性水溶液で洗浄することを特徴とするプリント基板の洗浄方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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