特許

J-GLOBAL ID：200903038982739627

電子ビーム描画装置および描画データの診断方法

発明者： 安藤 公明
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (2件)： 小川 勝男 ,  田中 恭助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-109005
公開番号（公開出願番号）：特開2004-319622
出願日： 2003年04月14日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

【課題】データのエラーを検出することができる診断方法を提供すること。【解決手段】描画パターンデータを半導体のチップ単位で累積ないし計数し、そのチップ単位毎の累積データおよび計数データをチップ単位で互いに比べることを特徴とする。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

描画パターンデータを半導体のチップ単位で累積ないし計数し、そのチップ単位毎の累積データおよび計数データをチップ単位で互いに比べることを特徴とする描画データの診断方法。

IPC (4件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01J37/147 ,  H01J37/305

FI (4件)：

H01L21/30 541Z ,  G03F7/20 504 ,  H01J37/147 C ,  H01J37/305 B

Fターム (11件)：

2H097AA03 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5C033GG03 ,  5C034BB03 ,  5C034BB04 ,  5F056AA01 ,  5F056BC03 ,  5F056CA02 ,  5F056CA30 ,  5F056CB05