特許
J-GLOBAL ID:200903038991897049

排ガス処理方法および吸着剤充填層装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 佐々木 宗治 ,  小林 久夫 ,  石川 壽彦 ,  木村 三朗 ,  大村 昇
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-343192
公開番号(公開出願番号):特開2004-174360
出願日: 2002年11月27日
公開日(公表日): 2004年06月24日
要約:
【課題】猛毒成分であるダイオキシン類等を確実に除去するとともに、吸着剤の長寿命化を達成することのできる排ガス処理方法及び吸着剤充填層装置を提供すること。【解決手段】排ガスの中和処理および除塵処理を経て各種の成分が未だ微量に残存する多成分系の排ガスの処理において、排ガス中のダイオキシン類で代表される猛毒成分を除去する際に、まず、薬品賦活を経て製造された炭素系吸着剤に排ガスを接触させ、ついで、水蒸気賦活を経て製造された炭素系吸着剤に接触させることにより、排ガスを無害化する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
排ガスの中和処理および除塵処理を経て各種の成分が未だ微量に残存する多成分系の排ガスの処理において、 前記排ガス中のダイオキシン類で代表される猛毒成分を除去する際に、まず、薬品賦活を経て製造された炭素系吸着剤に前記排ガスを接触させ、ついで、水蒸気賦活を経て製造された炭素系吸着剤に接触させることにより、前記排ガスを無害化することを特徴とする排ガスの処理方法。
IPC (3件):
B01D53/70 ,  B01D53/72 ,  B01D53/86
FI (3件):
B01D53/34 134E ,  B01D53/34 120D ,  B01D53/36 G
Fターム (27件):
4D002AA21 ,  4D002AA40 ,  4D002AC03 ,  4D002AC04 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002CA07 ,  4D002DA18 ,  4D002DA41 ,  4D002EA02 ,  4D002EA06 ,  4D002HA01 ,  4D048AA11 ,  4D048AA21 ,  4D048BA03Y ,  4D048BA07Y ,  4D048BA23Y ,  4D048BA27Y ,  4D048BA28Y ,  4D048BA30Y ,  4D048BA41Y ,  4D048BB01 ,  4D048CA03 ,  4D048CC41 ,  4D048CD01 ,  4D048CD03 ,  4D048CD08

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