特許
J-GLOBAL ID：200903038996627600
微細パターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-331845
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166717
出願日： 1991年12月16日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】【目的】 微細な抜きパターンを解像限界以下のパターン寸法に形成する方法を提供する。【構成】 パターン形成用レジスト2に微細な抜きパターンを形成した後、前記パターン形成用レジスト2とミキシングするミキシング生成用レジスト3を塗布し、ベークを行ってミキシング層4を形成し、前記ミキシング層4以外のミキシング生成用レジスト3を除去することにより、パターン形成用レジスト2に形成された微細な抜きパターンのパターン寸法aよりミキシング層4の厚さb分だけ微細な微細パターン寸法cに現像を行い、パターン形成することを特徴としている。
請求項（抜粋）：
基板上に塗布したパターン形成用レジストに微細な抜きのパターンを形成した後、前記パターン形成用レジストとミキシングするミキシング生成用レジストを基板全面に塗布し、前記パターン形成用レジストとミキシングする温度でベークを行ってミキシング層を形成し、ミキシングしていない部分の前記ミキシング生成用レジストを除去して前記微細な抜きパターン寸法より微細な抜きパターンを形成することを特徴とする微細パターン形成方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, H01L 21/302
H01L 21/30 361 P
, H01L 21/30 361 Q
