特許
J-GLOBAL ID:200903039008036259
有機EL素子の製造方法、および有機EL素子
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石井 陽一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-177248
公開番号(公開出願番号):特開2001-357974
出願日: 2000年06月13日
公開日(公表日): 2001年12月26日
要約:
【要約】【課題】 従来極めて困難であった塗布法による積層膜の形成を可能とし、高効率で、リーク電流の発生もなく、長寿命で低コストな有機EL素子と、その製造方法を提供する。【解決手段】 第1の電極と、第2の電極と、この一対の電極間に少なくとも発光機能に関与する有機層とを有する有機EL素子の製造方法であって、少なくとも有機層の1種を塗布法により形成し、かつ2回以上塗布を行う構成の有機EL素子の製造方法、および有機EL素子とした。
請求項(抜粋):
第1の電極と、第2の電極と、この一対の電極間に少なくとも発光機能に関与する有機層とを有する有機EL素子の製造方法であって、少なくとも有機層の1種を塗布法により形成し、かつ2回以上塗布を行う有機EL素子の製造方法。
IPC (5件):
H05B 33/10
, B05D 1/02
, B05D 1/36
, B05D 7/00
, H05B 33/14
FI (5件):
H05B 33/10
, B05D 1/02 Z
, B05D 1/36 Z
, B05D 7/00 H
, H05B 33/14 A
Fターム (10件):
3K007AB18
, 3K007CA01
, 3K007CB01
, 3K007DA01
, 3K007DB03
, 3K007EB00
, 3K007FA01
, 4D075AA01
, 4D075AE03
, 4D075DC21
引用特許:
前のページに戻る