特許

J-GLOBAL ID：200903039024322520

ビームスキャン式レーザマーキング装置

発明者： 馬場 美充 ,  渡苅 佐登志
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-271726
公開番号（公開出願番号）：特開平7-124763
出願日： 1993年10月29日
公開日（公表日）： 1995年05月16日
要約：

【要約】【目的】 コストが低く、薄形の電子部品にも使用して処理能力を高くする。【構成】 レーザ発振器1から射出されるCW励起Qスイッチパルス発振レーザ光の光軸上にマスク5を設け、マスク上のリング状パターンを透過したレーザ光をビームエキスパンダ7、ガルバノメータ8,9およびfθレンズ10を介してワーク面11に結像させてビームスキャンニングすることにより、ワーク面11上の描線の巾方向の加工深さが均等化されて最深の深さが浅くなり、薄形の電子部品のマーキングが可能となる。また、発振レーザの1サイクル中の発振時間を20μ秒〜200μ秒としてレーザパルス波形を改善し、加工深さの減少に資するとともにマーキングの視認性を向上させる。

請求項（抜粋）：

CW励起Qスイッチパルス発振レーザ光をビームスキャンニングによりマーキングを行なうビームスキャン式レーザマーキング装置において、レーザ光の外周部および中心部を遮光するためのマスクパターンが設けられたマスクを有し、前記マスクパターンを使用して整形されたレーザ光によりマーキング面にリング状の結像を形成してマーキングを行なうことを特徴とするビームスキャン式レーザマーキング装置。

IPC (3件)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  B41M 5/24