特許

J-GLOBAL ID：200903039024966819

エレクトロニクス用洗浄液

発明者： 宮崎 光広 ,  河東 稔 ,  斉藤 正樹 ,  杉山 勉
出願人/特許権者： 山口日本電気株式会社 ,  徳山石油化学株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-342878
公開番号（公開出願番号）：特開平7-074136
出願日： 1992年12月22日
公開日（公表日）： 1995年03月17日
要約：

【要約】【目的】 洗浄力がハロゲン系溶剤と同等またはそれ以上であって、被洗浄物を腐食損傷せず、特にアルミニウムを溶出せず、しかも人体及び環境に対して安全性の高いエレクトロニクス用洗浄液を得る。【構成】 エレクトロニクス用洗浄液が、トリメチルベンゼン類、メチルエチルベンゼン類、またはプロピルベンゼン類の少なくとも一種類の芳香族炭化水素を20重量%以上含有する石油留分99.8〜65重量%と、炭素数1〜8個の低級アルコール0.2〜35重量%とからなる。

請求項（抜粋）：

トリメチルベンゼン類、メチルエチルベンゼン類、またはプロピルベンゼン類の少なくとも一種類の芳香族炭化水素を20重量%以上含有する石油留分99.8〜65重量%と、炭素数1〜8個の低級アルコール0.2〜35重量%とからなることを特徴とするエレクトロニクス用洗浄液。

IPC (6件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  C11D 7/60 ,  C23G 5/032 ,  C11D 7:24 ,  C11D 7:26

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-182062