特許

J-GLOBAL ID：200903039029077028

低抵抗膜又は低屈折率膜形成用塗布液、及び、低抵抗膜又は低反射低抵抗膜の製造方法

発明者： 阿部 啓介 ,  石関 健二 ,  真田 恭宏 ,  米田 貴重 ,  森本 剛
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-139351
公開番号（公開出願番号）：特開2003-306615
出願日： 1996年07月22日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：

【要約】【課題】着色がなく透明で導電性に優れた高性能な低抵抗膜を形成でき、さらには反射防止効果にも優れた低反射低抵抗膜を形成できる塗布液、及び低抵抗膜と低反射低抵抗膜の製造方法の提供。【解決手段】平均粒径が10nmを超えるAg微粒子とAg塩とを少なくとも含有してなることを特徴とする低抵抗膜形成用塗布液、基体上に、前記塗布液を塗布し、その上にケイ素化合物を少なくとも含有してなる低屈折率膜形成用塗布液を塗布することを特徴とする低反射低抵抗膜の製造方法。

請求項（抜粋）：

平均粒径が10nmを超えるAg微粒子とAg塩とを少なくとも含有してなることを特徴とする低抵抗膜形成用塗布液。

IPC (6件)：

C09D 1/00 ,  C09D 5/00 ,  C09D 5/24 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  H01J 29/88

FI (6件)：

C09D 1/00 ,  C09D 5/00 Z ,  C09D 5/24 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  H01J 29/88

Fターム (14件)：

4J038AA011 ,  4J038DL031 ,  4J038DL032 ,  4J038HA061 ,  4J038HA131 ,  4J038HA446 ,  4J038KA06 ,  4J038NA19 ,  4J038NA20 ,  5C032AA02 ,  5C032DD02 ,  5C032DE01 ,  5C032DE02 ,  5C032DG02

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 特開昭63-76247号公報
  
• 陰極線管
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-099352   出願人：住友セメント株式会社
• 透明導電性薄膜形成用塗布液、およびこれを用いた透明導電性薄膜の製法、および表面導電性物品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-054193   出願人：住友大阪セメント株式会社
• 特開昭63-160140号公報
  
• 特開昭61-118931号公報
  

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-124331
  
• 特許第3449123号