露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-046520
公開番号（公開出願番号）：特開平6-260386
出願日： 1993年03月08日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：

【要約】【目的】不活性ガス雰囲気を破ることなくレチクルを交換することのでき、さらに好ましくはレチクルに発生する静電気を除去することによりレチクルの損傷を回避することのできる、露光装置を提供することを目的とする。【構成】マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に転写する本発明の露光装置は、投影露光すべき第1のマスクを密封包囲するための第1室と、該第1室に不活性ガスを供給するための第1の供給手段と、前記第1のマスクを次に投影露光すべき第2のマスクと交換するための交換手段と、前記第2のマスクを密封包囲するための第2室と、該第2室に不活性ガスを供給するための第2の供給手段と、第1室と第2室との連通を遮断したり開放したりするための開閉手段とを備えていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に転写する露光装置において、投影露光すべき第1のマスクを密封包囲するための第1室と、該第1室に不活性ガスを供給するための第1の供給手段と、前記第1のマスクを次に投影露光すべき第2のマスクと交換するための交換手段と、前記第2のマスクを密封包囲するための第2室と、該第2室に不活性ガスを供給するための第2の供給手段と、第1室と第2室との連通を遮断したり開放したりするための開閉手段とを備えていることを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , H01L 23/00

FI (2件)：

H01L 21/30 311 L , H01L 21/30 301 P

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-077809
特開平2-020040
縦型CVD・拡散装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-207429 出願人：国際電気株式会社

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