剥離基材

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-040712
公開番号（公開出願番号）：特開2002-240203
出願日： 2001年02月16日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：

【要約】【課題】基材に含まれるシリコーン硬化阻害物質のシリコーン剥離層への移行を防止でき、紫外線硬化装置を備えた印刷機に対応できるような紫外線硬化型の目止め層を有し、さらに粘着物質に対して経時的に安定した剥離負荷を発揮する剥離基材を提供する。【解決手段】基材(A)の少なくとも片面に、紫外線硬化型目止め剤(B)からなる目止め層と、カチオン重合性紫外線硬化型シリコーン剥離剤(C)からなるシリコーン剥離層とを順次積層することを特徴とする剥離基材。

請求項（抜粋）：

基材(A)の少なくとも片面に、紫外線硬化型目止め剤(B)からなる目止め層と、カチオン重合性紫外線硬化型シリコーン剥離剤(C)からなるシリコーン剥離層とを順次積層することを特徴とする剥離基材。

IPC (8件)：

B32B 27/00 101 , B32B 27/00 , C08F 2/50 , C08F290/00 , C08F299/00 , C09D 4/06 , C09D 5/20 , C09D183/04

FI (8件)：

B32B 27/00 101 , B32B 27/00 L , C08F 2/50 , C08F290/00 , C08F299/00 , C09D 4/06 , C09D 5/20 , C09D183/04

Fターム (59件)：

4F100AH02 , 4F100AK01A , 4F100AK25 , 4F100AK52C , 4F100AR00B , 4F100AT00A , 4F100CA30B , 4F100DG10A , 4F100JB14B , 4F100JB14C , 4F100JL14C , 4F100YY00B , 4J011QA13 , 4J011QA22 , 4J011QA24 , 4J011QB19 , 4J011QB20 , 4J011QB28 , 4J011SA01 , 4J011SA21 , 4J011SA24 , 4J011SA29 , 4J011SA41 , 4J011SA51 , 4J011SA63 , 4J011SA64 , 4J011SA87 , 4J011UA01 , 4J011VA01 , 4J027AB01 , 4J027AC03 , 4J027AE01 , 4J027AE02 , 4J027AG01 , 4J027BA14 , 4J027BA19 , 4J027BA21 , 4J027BA26 , 4J027CC05 , 4J038DL052 , 4J038FA151 , 4J038FA161 , 4J038FA261 , 4J038GA03 , 4J038GA07 , 4J038GA11 , 4J038JA13 , 4J038JB33 , 4J038KA03 , 4J038MA07 , 4J038MA10 , 4J038NA10 , 4J038NA12 , 4J038NA25 , 4J038PA17 , 4J038PB02 , 4J038PB04 , 4J038PC08 , 4J038PC10

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭64-080525
特開昭58-144187
光硬化性剥離剤およびそれを用いたセパレータ
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-070519 出願人：ジーイー東芝シリコーン株式会社, 東亞合成株式会社

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審査官引用 (7件)

特開昭64-080525
特開昭64-080525
特開昭58-144187

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