特許
J-GLOBAL ID:200903039041227000

孔を有するセラミック焼成体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-178258
公開番号(公開出願番号):特開2005-014240
出願日: 2003年06月23日
公開日(公表日): 2005年01月20日
要約:
【課題】容易に孔を形成することができる孔を有するセラミック焼成体の製造方法を提供する。【解決手段】セラミックに孔を形成するための孔形成容器1はセラミックスラリー2が収容されている収容容器3と、チクソトロピー性を有するチクソ材4が収容されている保持容器5とを有している。前記収容容器3の底壁6には多数の貫通孔7を備えている。前記保持容器5は、その内部に収容容器3がそれらの側壁12、14間で摺接されて相対移動可能になっている。前記収容容器3と保持容器5とを相対移動させると、貫通孔7を通してセラミックスラリー2中にチクソ材4が注入される。その状態で加熱し、前記収容容器3と前記保持容器5とを互いに相対移動させると、流動化したチクソ材は貫通孔7を通って保持容器5中に除去され、セラミック乾燥体が得られる。その後、前記セラミック乾燥体を焼成することによって孔を有するセラミック焼成体を得る。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
貫通孔を有する収容容器に収容されたセラミックスラリー中に前記貫通孔からチクソトロピー性を有するチクソ材を注入させた後、セラミックスラリーを固化してセラミック乾燥体を得るとともに、チクソ材を消失させてセラミック乾燥体中に孔を形成し、該乾燥体を焼成することを特徴とする孔を有するセラミック焼成体の製造方法。
IPC (3件):
B28B7/16 ,  B28B1/14 ,  C04B35/64
FI (3件):
B28B7/16 A ,  B28B1/14 A ,  C04B35/64 L
Fターム (22件):
3G090AA02 ,  3G091AB01 ,  3G091BA39 ,  3G091GA06 ,  3G091GB07X ,  4G053AA07 ,  4G053AA13 ,  4G053AA17 ,  4G053BC04 ,  4G053BC14 ,  4G053BF04 ,  4G053CA07 ,  4G053CA08 ,  4G053CA09 ,  4G053CA20 ,  4G053DA03 ,  4G053EA02 ,  4G053EA08 ,  4G053EA42 ,  4G053EA43 ,  4G053EA44 ,  4G053EB17

前のページに戻る