特許
J-GLOBAL ID：200903039042211230
露光方法及び露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-218910
公開番号（公開出願番号）：特開平7-074079
出願日： 1993年09月02日
公開日（公表日）： 1995年03月17日
要約：
【要約】【目的】 ステップ・アンド・スキャン方式の露光方法において、ウエハの歪みや空気揺らぎの影響を小さくして重ね合わせ精度を高める。【構成】 レチクルRのパターン1の両側に走査方向に沿って回折格子マーク2A及び2Bを形成し、ウエハWのショット領域4の両側に走査方向に沿って回折格子マーク5A及び5Bを形成する。レチクルRを微動ステージ7を介して走査ステージ8上に載置し、ウエハWをウエハステージ11上に載置する。走査ステージ8及びウエハステージ11を介してレチクルR及びウエハWを走査すると共に、回折格子マーク2A,2Bと5A,5Bとの位置ずれ量が所定範囲内に収まるように連続的に微動ステージ7の位置及び回転角を微調整する。
請求項（抜粋）：
所定の照明領域を均一な照度で照明し、転写用のパターンが形成されたマスクを前記照明領域に対して所定の方向に走査し、前記マスクの走査と同期して感光性の基板を所定の方向に走査することにより、前記マスクのパターンを逐次前記基板上に露光する方法において、前記マスク上のパターンの走査方向の位置を示す第1のマークを前記マスク上に形成し、前記基板上の前記マスクのパターンが露光される領域の走査方向の位置を示す第2のマークを前記基板上に形成し、前記マスク及び前記基板を同期して走査する際に、前記所定の照明領域の近傍で前記マスク上の第1のマークと前記基板上の第2のマークとの位置ずれ量を連続的に検出し、該検出された位置ずれ量が所定の範囲内に収まるように前記マスク及び前記基板の少なくとも一方の走査位置を制御して、前記マスクのパターンを前記基板上に逐次露光することを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
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