特許

J-GLOBAL ID：200903039047749572

膜モジュールの洗浄方法

発明者： 添田 祐二 ,  片岡 泰彦 ,  塗師 雅治
出願人/特許権者： 株式会社クボタ
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-016655
公開番号（公開出願番号）：特開平6-226064
出願日： 1993年02月04日
公開日（公表日）： 1994年08月16日
要約：

【要約】【目的】 膜モジュールを容易に洗浄できるようにする。【構成】 ケーシング8に、開状態において処理槽9内の被処理液10をこのケーシング8に導入させて膜モジュール11により膜分離を行わせるための開閉口12を設け、この開閉口12を閉じ、ケーシング8内の被処理液を排出するとともに、代わりに洗浄水を導入して、ケーシング8内で膜面を洗浄する。【効果】 処理槽から取り出すことなく膜モジュールを洗浄できる。

請求項（抜粋）：

処理槽の内部に設けられたケーシング内に膜モジュールを配置した膜分離ユニットにおいて、ケーシングに、開状態において処理槽内の被処理液をこのケーシングに導入させて膜分離を行わせるための開閉口を設け、この開閉口を閉じ、ケーシング内の被処理液を排出するとともに、代わりに洗浄水を導入して、ケーシング内で膜面を洗浄することを特徴とする膜モジュールの洗浄方法。

IPC (2件)：

B01D 65/02 ,  B01D 65/02 520